14.09.2010
РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК

УРАЛЬСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ

ИНСТИТУТ ХИМИИ TBEPДОГО ТЕЛА
   
| | | | |
| | | | | |
 14.09.2010   Карта сайта     Language По-русски По-английски
Новые материалы
Экология
Электротехника и обработка материалов
Медицина
Статистика публикаций


14.09.2010

Protecting Polymers in Space with Atomic Layer Deposition Coatings





Timothy K. Minton*, Bohan Wu, Jianming Zhang, Ned F. Lindholm, Aziz I. Abdulagatov, Jennifer O’Patchen, Steven M. George and Markus D. Groner§


Department of Chemistry and Biochemistry, Montana State University, Bozeman, Montana 59717, Department of Chemistry and Biochemistry, University of Colorado, Boulder, Colorado 80309, and ALD NanoSolutions, 580 Burbank Street, Unit 100, Broomfield, Colorado 80020


ACS Appl. Mater. Interfaces, Article ASAP

DOI: 10.1021/am100217m

Publication Date (Web): August 25, 2010

Copyright © 2010 American Chemical Society

* To whom correspondence should be addressed. Tel: 406-994-5394. Fax: 406-994-6011. E-mail: tminton@montana.edu., †

Montana State University.


, ‡

University of Colorado.


, §

ALD NanoSolutions.






Abstract



Abstract Image

Polymers in space may be subjected to a barrage of incident atoms, photons, and/or ions. Atomic layer deposition (ALD) techniques can produce films that mitigate many of the current challenges for space polymers. We have studied the efficacy of various ALD coatings to protect Kapton polyimide, FEP Teflon, and poly(methyl methacrylate) films from atomic-oxygen and vacuum ultraviolet (VUV) attack. Atomic-oxygen and VUV studies were conducted with the use of a laser-detonation source for hyperthermal O atoms and a D2 lamp as a source of VUV light. These studies used a quartz crystal microbalance (QCM) to monitor mass loss in situ, as well as surface profilometry and scanning electron microscopy to study the surface recession and morphology changes ex situ. Al2O3 ALD coatings protected the underlying substrates from atomic-oxygen attack, and the addition of TiO2 coatings protected the substrates from VUV-induced damage. The results indicate that ALD coatings can simultaneously protect polymers from oxygen-atom erosion and VUV radiation damage.



Keywords:


polymer protection; low Earth orbit; atomic layer deposition; atomic oxygen erosion; VUV photodegradation



Дизайн и программирование N-Studio 
А Б В Г Д Е Ё Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
  • Chen Wev   honorary member of ISSC science council

  • Harton Vladislav Vadim  honorary member of ISSC science council

  • Lichtenstain Alexandr Iosif  honorary member of ISSC science council

  • Novikov Dimirtii Leonid  honorary member of ISSC science council

  • Yakushev Mikhail Vasilii  honorary member of ISSC science council

  • © 2004-2024 ИХТТ УрО РАН
    беременность, мода, красота, здоровье, диеты, женский журнал, здоровье детей, здоровье ребенка, красота и здоровье, жизнь и здоровье, секреты красоты, воспитание ребенка рождение ребенка,пол ребенка,воспитание ребенка,ребенок дошкольного возраста, дети дошкольного возраста,грудной ребенок,обучение ребенка,родить ребенка,загадки для детей,здоровье ребенка,зачатие ребенка,второй ребенок,определение пола ребенка,будущий ребенок медицина, клиники и больницы, болезни, врач, лечение, доктор, наркология, спид, вич, алкоголизм православные знакомства, православный сайт творчeства, православные рассказы, плохие мысли, православные психологи рождение ребенка,пол ребенка,воспитание ребенка,ребенок дошкольного возраста, дети дошкольного возраста,грудной ребенок,обучение ребенка,родить ребенка,загадки для детей,здоровье ребенка,зачатие ребенка,второй ребенок,определение пола ребенка,будущий ребенок